＜用語解説＞

多重露光超解像 Multiplex Exposure Super Resolution

　複数回露光することにより回折による解像限界を超えた高い解像を得る方法。結像面をわずかにずらして複数回露光する方法やパターンを変えて複数回露光する方法がある。リソグラフィーではパターンを二つのマスクに分割して偏光照明で90度回転して2回露光する方法が知られている。さらに45nmおよび32nm以下のパターニングを狙って二重露光とエッチングプロセスの開発や、二重露光用の特殊な二光子吸収レジストなどの開発により2倍の解像度を得る方法が研究されている。

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