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<用語解説>

位相シフトマスク Phase Shift Mask

 半導体露光用のマスクでパターンの透過部で一つおきにシフタを設け、通過する位相を交互にπ(180度)ずらしたマスクのこと。このマスクで露光するとシフタを通ったとシフタを通らない振幅は反転する。このためウエハー上での強度はパターンの境目で0となり、繰り返しパターンは解像する。シフタの厚さをd、屈折率をn 、波長をλ、位相をθとするとき、d=λθ/(2π(n-1))の関係がある。θ=πのときd=λ/2(n-1)である。多くのタイプの位相シフトマスクが開発されている。実用になっている繰返しパターンに有効なレベンソン型、コンタクトホールの露光に使われているハーフトン型の他にエッジ型、透過型、自己整合型、補助パターン型などがある。

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