セミナー/用語

お問合せ
(株)オプトロニクス社

TEL(03)3269-3550
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月刊OPTRONICSでは、幅広い産業分野で応用されているレーザプロセス技術を実用的な視点から、その導入を目指す方々のために実践的解説をする特別セミナーを開催いたします。産業分野で実用化されている事例を中心に、その代表的なものを数多く取り上げ、これら事例プロセスの基となるような基礎事項を汎用理論ではなくあくまで実用を念頭に置いた解説をします。
また、プロセス用各種レーザの構造や特性、レーザプロセスの実際として熱処理プロセスにおける除去加工、接合加工、表面改質、光化学処理プロセスとしてアブレーション加工、リソグラフィ、アニーリング、表面改質、薄膜形成技術、さらにはフェムト秒レーザによるアブレーション加工やレーザ同位体分離、レーザプロセスの今後の展望など、まさに基礎から実際の応用までを網羅した実用化セミナーとなります。
講師は長く大手企業においてHe-Neレーザ、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザとその応用に関する研究・開発・事業化支援に携わってこられた永井治彦氏をお招きいたします。当分野を代表する講師をお招きして開催する本セミナーは,これからレーザプロセス技術の実用化に深く関わっていく研究開発・技術者にとっての大変有意義な機会をご提供いたします。
皆様の奮ってのご参加をお待ちしております。

開催概要

会 期 2009年4月22日(水) 14:00〜17:00
会 場 パシフィコ横浜 アネックスホール F205
〒220-0012 横浜市西区みなとみらい1-1-1 (地図)
受講料
(税込)
一般: \30,450円 (月刊オプトロニクス1年間定期購読料込、テキスト代込)
月刊オプトロニクス定期購読者: \18,900円 (テキスト代込)
定 員 60名(定員になり次第締切)
主 催 月刊 OPTRONICS
お問合せ (株)オプトロニクス社 担当:宇津野
Tel:(03)3269-3550 E-mail:utsuno@optronics.co.jp

 

プログラム

第1部 14:00〜15:25
【第1部】 レーザプロセスの基礎とプロセス用各種レーザの特性
* 物質によるレーザ光の吸収と熱拡散/プラズマの生成とレーザ光の吸収/熱処理プロセス/光化学処理プロセス/レーザアブレーション/気体レーザ/固体レーザ/高出力半導体レーザ/ファイバーレーザ/フェムト秒レーザ/光高調波の発生

休 憩

第2部 15:35〜17:00
【第2部】 レーザプロセスの実際とその応用
* レーザ加工機構/熱処理プロセス/光化学処理プロセス/超短パルス処理プロセス/レーザプロセスの新しい展開/レーザ同位体分離

講師

永井 治彦氏 永井 治彦 (ながい はるひこ) 氏
1968年九州大学大学院工学研究科(電気工学専攻)修士課程修了。同年三菱電機(株)中央研究所入社。以後、He-Neレーザ、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザとその応用に関する研究・開発・事業化支援の業務に従事。
1975年工学博士。現在、東洋精密工業(株)技術顧問。

テキスト

「レーザプロセス技術 基礎から実際まで」
(セミナー受講料に含まれています。)

オプトロニクス社2008年12月刊行
著者:永井 治彦
体裁:A5版 290ページ
価格:4,200円(税込)

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