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(株)オプトロニクス社

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 月刊OPTRONICSでは本年2月号において「インプリントリソグラフィのフォトニクスへの応用」と題する特集を企画・掲載いたしました。本特集は多くの読者の皆様から多大な反響をいただきましたが、その後もインプリントリソグラフィ技術は日進月歩の勢いで著しく進展しています。そこで弊誌ではこのインプリントリソグラフィ技術の最新動向と実際の産業界での個々の事業化、実用化事例などを実践的にご紹介する特別セミナーを開催いたします。
 当分野を代表する講師陣をお招きして開催する本セミナーは、広く多数の関連研究開発・技術者の皆様に大変有意義な機会をご提供いたします。
 皆様の奮ってのご参加をお待ちしております。

会期・会場

2010年9月2日(木) 10:30〜17:00 (受付10:00〜)
中央大学 駿河台記念館 510号室

プログラム

講演1
10:30〜11:20
インプリントリソグラフィ技術の現状と将来展望
(独)情報通信研究機構 神戸研究所 中尾 正史 氏

<講演要旨>
インプリントリソグラフィ技術に関するこれまでの研究開発の歴史に簡単に触れた後、それぞれの技術要素の現状と応用の進みつつある分野を紹介し、さらには技術の将来性についても言及する。
講演2
11:20〜12:20
ナノインプリント装置開発および応用事例
― レンズ、光学フィルム等の転写事例から、高輝度LED、HDD、太陽電池といった応用事例まで ―

東芝機械(株)ナノ加工システム事業部 小久保 光典 氏

<講演要旨>
低コスト微細構造形成技術である,ナノインプリント成形技術の概要について紹介するとともに,超精密加工機による金型加工にも触れる。 ナノインプリント装置に関しては直押し方式の微細転写装置に加え,大面積化・高スループット化へのアプローチとして注目されているRoll to Roll方式の装置開発状況について説明し,両インプリント装置による転写成形例と対象デバイス事例の紹介を交えて,現状と今後の展望について述べる。
12:20〜13:00 <昼休み>
講演3
13:00〜13:50
真空紫外光によるモールド洗浄技術および表面処理技術
ウシオ電機(株)第一事業部光プロセスBU 山口 真典 氏

<講演要旨>
ナノインプリント技術の普及のカギの一つになっているモールドの洗浄を紹介する。特に、エキシマランプからの真空紫外光照射によるモールド上に残存するインプリント樹脂の分解・除去の適用例等を紹介する。
講演4
13:50〜14:50
UVナノインプリント樹脂の開発とその適用性
ダイセル化学工業(株)研究統括部 コーポレート研究所 三宅 弘人 氏

<講演要旨>
ナノインプリントの概要とUVナノインプリントの直面する課題を明確にすると共にその対策に関して弊社取り組みを交えながら紹介する。また、最近の適用例等を挙げながら本技術の可能性を考える。
講演5
15:00〜16:00
半導体レーザへの光ナノインプリントの応用可能性(光デバイス関係)
住友電気工業(株)伝送デバイス研究所 柳沢 昌輝 氏

<講演要旨>
光デバイス応用の観点から光ナノインプリントの特徴と課題について考察するとともに、実用化への取り組みの一例として、半導体レーザの回折格子作製プロセスへの応用について紹介する。
講演6
16:00〜17:00
フィルムへの極微細構造の形成と微細構造のバイオ応用
(株)日立製作所 日立研究所 材料研究所 宮内 昭浩 氏

<講演要旨>
フィルムへの微細構造の形成は、ロール加圧方式による構造の連続成型が量産化に向いている。本講演では、最小25nmの極微細構造をフィルム表面へ連続形成する装置・プロセス技術を紹介する。また、微細構造の応用例として、免疫分析チップの高感度化や再生医療や創薬への適用が望まれている細胞培養を紹介する。
※上記プログラムは2010年6月15日時点のものです。予告なく変更される場合もございますので、予めご了承下さい。

受講料・申込方法 他

受講料 一般:\33,550 (税、月刊OPTRONICS 1年間定期購読料込)
月刊OPTRONICS 定期購読者:\22,000 (税込)
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定員 60名 (定員になり次第締め切らせていただきます。)
申込方法 当ページ下部のお申込みフォームより、必要事項をご入力の上お申し込み下さい。
受付が完了しましたら、受講票と請求書を郵送致します。開催前までに所定の口座に受講料をお振込み下さい。
主催 月刊 OPTRONICS
お問合せ (株)オプトロニクス社 担当:宇津野
Tel:(03)3269-3550 E-mail:utsuno@optronics.co.jp

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