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(株)オプトロニクス社

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 月刊OPTRONICSでは2010年2月号において「インプリントリソグラフィのフォトニクスへの応用」と題する特集を企画・掲載いたしました。本特集は多くの読者の皆様から多大な反響をいただき、同年9月には特別セミナーを開催し、多数ご参加いただきました。その後もインプリントリソグラフィ技術は日進月歩の勢いで著しく進展しており、弊誌では同セミナーを毎年開催し、最新動向を読者の皆様にご紹介してまいりました。本年も、このインプリントリソグラフィ技術の最新動向と実際の産業界での個々の事業化、実用化事例などを実践的にご紹介する特別セミナーを開催いたします。当分野を代表する講師陣をお招きして開催する本セミナーは、広く多数の関連研究開発・技術者の皆様に大変有意義な機会をご提供いたします。
 皆様の奮ってのご参加をお待ちしております。

会期・会場

2012年11月8日(木) 9:45〜17:25(受付9:20〜)
東京・四ツ谷 主婦会館プラザエフ8F「スイセン」

プログラム

講演1
9:45〜10:45
インプリントリソグラフィ技術と最新事情
中尾 正史 氏
(独)情報通信研究機構

<講演要旨>
インプリントリソグラフィ技術の進展と摘要分野、並びに最新の研究開発動向を紹介する。また、講演者の開発した大面積微細メタルパタン作製技術とその応用の可能性についても紹介する。
講演2
10:50〜12:00
Recent Equipment and Process Developments in Nanoimprint Lithography
英語による講演になります。
Thomas Glinsner 氏
EVG社

<講演要旨>
Nanoimprint lithography (NIL) is an emerging technology and has been extensively used during the last years in research and development. In some areas NIL is the process of choice for high volume manufacturing and is nowadays used for the production of polymer based microlenses implemented in wafer level optics. The main benefit of NIL is the capability to fabricate structures for a very wide range ミ from micrometer to nanometer - at low cost and with a simplified equipment concept if compared to other next generation lithography techniques. The resolution achievable with NIL is only dependent on the stamp characteristics. We will present our recent equipment and process developments in various areas of nanoimprint lithography - hot embossing and UV-NIL.
講演3
13:00〜14:00
実用化に向けたインプリント用レジスト開発の最新事情
三宅 弘人 氏
(株)ダイセル 研究統括部 技術企画グループ

<講演要旨>
インプリントの実用化に向け各社樹脂開発を行なっている。インプリント技術で残っている課題とその対応策を紹介するとともに、発表されている代表的なインプリント樹脂とその特長を紹介する。
講演4
14:05〜15:05
インプリントリソグラフィ技術の記録媒体及び半導体デバイスへの応用
和田 英之 氏
モレキュラー・インプリンツ社

<講演要旨>
ハードディスクのパターンドメディアや、半導体への量産適用を目指し、改良が進むインプリントリソグラフィについて、最近の成果と今後の課題について述べる。また、その他のアプリケーションにおける展望についても紹介する。
講演5
15:20〜16:20
インプリントシステム開発の最新展開とバイオ応用
宮内 昭浩 氏
(株)日立製作所 日立研究所

<講演要旨>
インプリント技術は光学部材やバイオ基材の加工技術として量産化時期を迎えた。インプリント技術の実用化のポイントは剥離技術である。本講演では,離型技術やフィルム加工技術,ナノ空間でのレオロジーに関して述べる。また,バイオ応用の事例を紹介する。
講演6
16:25〜17:25
UVインプリントと各種応用事例紹介
水野 潤 氏
早稲田大学 ナノ理工学研究機構

<講演要旨>
UVインプリントを使った応用例として幾つか挙げられるが、本講演では光学材料として、モスアイ構造シートや裸眼3Dレンズの作製、ナノ材料として金属ナノ粒子の生成、及びパターンドメディア、LEDの高効率化等への応用について述べる。

※上記プログラムは2012年9月14日時点のものです。予告なく変更される場合もございますので、予めご了承下さい。

受講料・申込方法 他

受講料 ・月刊OPTRONICS 定期購読者:\22,000 (税込)
・一般:\33,550 (税、月刊OPTRONICS 1年間定期購読料込)
※ 定期購読を今すぐお申し込みいただければ、上記定期購読者料金を適用いたします。
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いただくと下記割引価格にて受講いただけます。
・月刊OPTRONICS 定期購読者:\22,000\17,000 (税込)
・一般:\33,550\28,550 (税、月刊OPTRONICS 1年間定期購読料込)
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お申込み二人目以降は、月刊OPTRONICS定期購読者の料金を適用させていただきます(同一企業の方に限ります)。
定員 60名(定員になり次第締切、ただし開催1週間前までに最少催行人数10名に達しない場合は開催中止にすることがあります。)
申込締切日 2012年11月5日(月)
※ただし、締切日以前に定員に達した場合は、即日締切となります。
申込方法 当ページ下部のお申込みフォームより、必要事項をご入力の上お申込み下さい。
受付が完了しましたら、受講票と請求書を郵送致します。開催前までに所定の口座に受講料をお振込み下さい。
キャンセル
規程
お客様のご都合による受講解約の場合、10/22(月)までは受講料の50%、10/23(火)以降につきましては受講料の全額を解約金として申し受けます。
主催 月刊 OPTRONICS
企画協力 (株)デアネヒステ
お問合せ (株)オプトロニクス社 担当:宇津野
Tel:(03)3269-3550 E-mail:utsuno@optronics.co.jp