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(株)オプトロニクス社

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 インプリントリソグラフィ技術は日進月歩の勢いで著しく進展しており、弊誌では2010年以降毎年特別セミナーを開催し、技術の最新動向を読者の皆様にご紹介してまいりました。今回もますます応用展開が進むインプリントに関して、基本技術から最先端の応用までをインプリント研究開発に携わる第一人者の方々を講師陣にお招きし、実践的な特別セミナーとして開催いたします。本初心者はもとより多くの関連研究開発・技術者の皆様に大変有意義な機会をご提供するものであり、奮ってのご参加をお待ちしております。

会期・会場

2014年11月7日(金) 10:10〜16:30(受付9:45〜)
東京・四ツ谷 主婦会館プラザエフ 3F「主婦連会議室」

プログラム

講演1
10:10〜11:00
インプリント技術の概要と最新状況
中尾 正史 氏
東北大学マイクロシステム融合研究開発センター

<講演要旨>
インプリント技術をそれ以外のリソグラフィ技術と比較しながら、特徴、優位性、将来性について述べる。また、手がけたいくつかの応用事例も紹介する。
講演2
11:05〜11:55
ハロゲンフリー離型技術
熊澤 和久 氏
日本曹達(株)研究開発本部

<講演要旨>
ナノインプリントで主に使用される離型剤は、フッ素を含むものがほとんどである。本講演では、フッ素およびその他ハロゲンを含まない離型処理技術とその効果について紹介する。
講演3
12:45〜13:35
インプリントモールド作製のためのドライエッチング技術
加々見 丈二 氏
神港精機(株) 装置事業部 電子デバイス技術部

<講演要旨>
インプリント技術において、モールドからの離型性は非常に重要な要素である。この離型性に関わる大きな要因の一つにモールドの加工形状が挙げられる。本講演では、モールド加工技術としてのドライエッチングについて紹介する。 また、インプリントで形成されたパタンのドライエッチング加工例についても紹介する。
講演4
13:40〜14:30
半導体リソグラフィへのインプリント技術の応用
和田 英之 氏
Canon Nanotechnologies, Inc. 日本支店

<講演要旨>
半導体量産への適用を目指し、ナノインプリントリソグラフィの技術開発が進められている。本講演では、様々な技術課題について、その進展と現状について紹介する。
講演5
14:45〜15:35
樹脂流動の基礎と光学デバイスへの応用
宮内 昭浩 氏
(株)日立製作所 日立研究所

<講演要旨>
ナノインプリントによる反射防止膜や光学部材への量産適用が始まった。今後の更なる産業化には,ナノ空間における樹脂流動の理解や精緻な離型技術,スタンパの材料・設計が重要となる。本講演では,ズリ共振法によるナノ空間での樹脂流動の挙動やソフトスタンパによる微細構造形成を紹介する。
講演6
15:40〜16:30
インプリント技術のフォトニクスデバイス応用
杉本 喜正 氏
(独)物質・材料研究機構 先端フォトニクス材料ユニット

<講演要旨>
ナノスケール微細パターン形成と大面積が要求される分野としてナノフォトニクスがある。ナノインプリントによる最新のナノフォトニクス微細構造作製例を紹介する。

※上記プログラムは2014年9月16日時点のものです。予告なく変更される場合もございますので、予めご了承下さい。

受講料・申込方法 他

受講料 ・月刊OPTRONICS 定期購読者:\18,000 (税込)
・一般:\29,880 (税、月刊OPTRONICS 1年間定期購読料込)
※ 定期購読を今すぐお申し込みいただければ、上記定期購読者料金を適用いたします。
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定員 60名(定員になり次第締切、ただし開催1週間前までに最少催行人数10名に達しない場合は開催中止にすることがあります。)
申込方法 当ページ下部のお申込みフォームより、必要事項をご入力の上お申込み下さい。
受付が完了しましたら、受講票と請求書を郵送致します。開催前までに所定の口座に受講料をお振込み下さい。
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規程
お客様のご都合による受講解約の場合、10/20(月)までは受講料の50%、10/21(火)以降につきましては受講料の全額を解約金として申し受けます。
主催 月刊 OPTRONICS
企画協力 (株)デアネヒステ
お問合せ (株)オプトロニクス社 担当:宇津野
Tel:(03)3269-3550 E-mail:utsuno@optronics.co.jp