OPTRONICS WORLD

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(株)オプトロニクス社
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展示会速報 (2010年)  4/21(水)  4/22(木)  4/23(金)

4/21(水) 晴れ    来場登録者数 3,165名

光エレクトロニクス技術の総合展示会「OPTRONICS WORLD 2010」が、4月21日よりパシフィコ横浜にて開幕した。レーザーEXPO(主催:レーザー学会)、レンズ設計・製造展、VISION Japan(主催:月刊オプトロニクス)といった製品展示会に加え、出展社セミナー、併設特別セミナー、レーザー50周年特別講演が執り行われたほか、今回同時開催となった国際会議7th International Conference on Optics-photonics Design&Fabrication:ODFの最終日と重なったこともあり、国際色豊かな初日となった。本展示会は4月23日(金)までの3日間の会期で行なわれる。

レーザー学会 産業賞


優秀賞
 ・浜松ホトニクス(株)
  ステルスダイシング
 ・日亜化学工業(株)
  半導体レーザーダイオード
 ・昭和オプトロニクス(株)
  小型ブルー・グリーンレーザ JUNO
奨励賞
 ・澁谷工業(株)
  レーザ/ウォータ複合加工システム LAMICS
 ・(株)島津製作所
  小型固体グリーンレーザ BEAM MATETM
 ・(株)IHI
  三次元レーザレーダ式 踏切障害物検知装置
貢献賞
 ・ネオアーク(株)
  周波数標準レーザ

旭化成ケミカルズ(株)レンズ設計・製造展 No. H-9

IPAに代わる水切り乾燥剤「アクアドライ」


IPAに代わる水切り乾燥剤「アクアドライ」を参考出品している。この製品はグリコールエーテル系で、IPAと異なり有機溶剤予防規制に非該当。また取り込んだ水分を排出することができるため、回収再利用が可能でコストパフォーマンスに優れる。今後、新たに提案する専用の水切りシステムと共に、需要を開拓していく。

FAシステムエンジニアリング(株)VISION Japan No. F-21

3Dハイビジョン映像のライブ中継


左右のカメラをコンパクトにまとめた3Dカメラユニットを用い、3Dハイビジョン映像のライブ中継のデモを行なっている。このカメラで撮影した映像信号を、エンコーダ、コンポーザを通じて3Dモニタに出力する。3D方式は左右2系統の映像を水平方向に圧縮するサイド・バイ・サイド方式を採用。

キヤノンマーケティングジャパン(株)レンズ設計・製造展2010 No. C-1

Zygo社新製品
干渉計「VERIFIRE IQシリーズ」


Zygo社の新製品となる干渉計「VERIFIRE IQシリーズ」を、国内で初めて展示している。振動対策ソフトウェアを採用したことで、振動の影響を受けにくく、展示会場のような振動環境の悪い中でも正確な計測が可能。1K×1K高密度カメラとエンコード光学ズームを全シリーズに標準装備した。

コヒレント・ジャパン(株)レーザーEXPO No. D-10

小型高繰返しエキシマレーザ「IndyStar」


新製品となる微細加工に適した小型高繰返しエキシマレーザ「IndyStar」を展示している。繰返し周波数は従来製品の倍となる2kHz。このときのパルスエネルギーは193nmにおいて4mJ、248nmにおいて6mJ。同社はワールドワイドなサポート体制を展開しており、購入後のフォローについても自信を見せている。

ネオアーク(株)レーザーEXPO No. C-4

パルス発振のYAG/YVO4レーザ、他


国産では少ないパルス発振のYAG/YVO4レーザを取り揃える。1064nmのほか、第2高調波(532nm)から第5高調波(213nm)をラインナップしておりDNAや蛍光観察といったバイオ用途等に適している。この他、持ち運びが可能で、トレーサビリティに優れた波長標準よう素安定化He-Neレーザも展示している。

浜松ホトニクス(株)レーザーEXPO No. C-8

760nm DFB型レーザダイオード


国産初となる、新製品の760nm DFB型レーザダイオードを本展示会にて初お披露目している。DFBレーザは通常のファブリーペロー型半導体レーザに比べ、駆動電流量や環境温度に対する発振波長の安定性が優れているのが特長だが、波長760nmは特に酸素の分析に適しており、脳内モニタや燃焼モニタといった用途向けとして期待できるという。

(株)菱光社レンズ設計・製造展 No. G-26

2次元複屈折測定システム「PA-100」


東北大発ベンチャーのフォトニックラティス製2次元複屈折測定システム「PA-100」は、オートステージを採用した。面測定を行なうことで、点測定では困難だった透明サンプルの複屈折/位相差を、面分布として一括で計測することができる。その他光学フィルムの位相差分布、ナノインプリントの離型不良の評価等が可能。

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