紫外線技術セミナー
紫外線入門 光源からアプリケーションまで
理化学研究所 和田 智之 氏
光量子工学研究センター 光量子制御技術開発チーム チームリーダー生体無害ウイルス不活化220-230nm Far-UVC LEDの最近の進展
理化学研究所 平山 秀樹 氏
平山量子光素子研究室 主任研究員
光格子時計の開発と日本標準時への実装
情報通信研究機構 井戸 哲也 氏
電磁波研究所 時空標準研究室 室長
| 受講料（1セッション／税込） | |||
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| 一般 | 主催・協賛団体会員／出展社／月刊オプトロニクス定期購読者 | 学生 | |
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￥5,000 | |
EUVリソグラフィ応用にむけた光源開発の現状
九州大学／元ギガフォトン(株) 溝口 計 氏
九州大学 プラズマナノ界面工学センター アドバイザ／客員教授レーザー生成プラズマEUV光源と短波長化などの動向
宇都宮大学 東口 武史 氏
工学部 基盤工学科 情報電子オプティクスコース 教授半導体デバイスの製造にEUV露光装置が用いられている。EUV露光装置が我が国に設置されることになった。
EUV露光装置はオランダのASML社のみが製造できる唯一の最重要装置であり、EUV露光装置に限ってはASML社の独占状態にある。現在のEUV露光機のEUV光源の出力は1.2MWの電力で約500Wである。フィードバックを行わない制御方式（オープンループ）で、100kHzの繰り返しにする試行で740Wの出力が達成されている。この高出力化を図るため、繰り返し周波数を50kHzから100kHzにあげ、Sn液滴ターゲットの間隔を拡げる必要があり、液滴ターゲットを押し出すタンクの背圧を700気圧にしている。
一方、消費電力は非常に大きい（1MW級）ため、省エネ化（グリーン化）やエネルギー効率を高効率化する必要がある。EUV光源の高出力化とともに消費電力も増大するものの消費電力を削減する方策は見いだされていないのが現状である。EUV光源の省電力化にはレーザーからEUV光へのエネルギー変換効率を高めることなどが必要である。
フォトマスク検査機へのEUV光源適用技術
レーザーテック(株) 宮井 博基 氏
執行役員 技術五部長
| 受講料（1セッション／税込） | |||
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￥5,000 | |
| 受講料（1セッション／税込） | |||
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お支払方法 |
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平山 秀樹
理化学研究所
平山量子光素子研究室 主任研究員
1994年 東京工業大学電子物理工学専攻博士課程修了（工学博士）
1994年 理化学研究所入所
2005年 テラヘルツ量子素子研究チーム、チームディレクター
2012年 平山量子光素子研究室、主任研究員（現職）
(兼務)埼玉大学連携教授、東京理科大学客員教授、徳島大学招聘教授
(公職歴) 応答物理学会理事（’21-22）、JJAP/APEX誌編集長（‘22）、NPO法人日本フォトニクス協議会理事・紫外線研究会委員長、NPO法人皮膚光線治療促進の会理事
井戸 哲也
情報通信研究機構
電磁波研究所 時空標準研究室 室長
東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻博士課程を修了後、JST-ERATO研究員、米国NIST/コロラド大学JILAのResearch Associateを経て、2006年にNICTに着任。黎明期から光格子時計の研究に携わり、着任後は光格子時計および精密光計測技術の研究開発を推進するとともに、それらを標準時システムへ導入する取り組みを主導してきた。国際度量衡委員会時間周波数諮問委員会（CCTF）の秒の再定義タスクフォースにおいては、再定義条件充足判定委員会の共同議長を務めている。さらに近年は、時刻・周波数標準技術をモバイル通信分野へ応用する活動にも注力し、XGMFなどを通じて時空間同期技術の普及と発展に貢献している。博士（工学）。
東口 武
宇都宮大学
工学部 基盤工学科 情報電子オプティクスコース 教授
宮崎大学助手、宇都宮大学助教、准教授を経て、教授．現在、工学部基盤工学科情報電子オプティクスコース（電気電子分野）。 これまで、米国ブルックヘブン国立研究所、英国オックスフォード大学、 アイルランド国立大学ダブリン校、チェコ科学アカデミー物理学研究所で客員教授、客員研究員。 EUV光源、高繰り返し薄ディスクレーザー、ファイバーレーザー、光計測、医用生体工学などの研究に従事している。
宮井 博基
レーザーテック(株)
執行役員 技術五部長
1999年 横浜国立大学大学院修士課程を卒業
2002年 レーザーテック株式会社に入社以降、半導体検査装置の開発に従事
2009年にEUVマスクブランクス欠陥検査機の開発を開始。2013年 のPhotomask Japanでは同装置の発表でベストプレゼンテーションを受賞。2018年にはEUVマスク検査技術の開発がマスク業界に貢献したことから、SPIEよりBACUS Awardを受賞。
2019年にはEUVマスクパターン検査機の開発に世界で初めて成功し、国際学会SPIE Photomask Technology + EUVLにてベストプレゼンテーションを受賞。