出展企業による技術セミナー
2026年04月22日(水)
10:30-11:15
展示ホール内特設会場3
【EX-1 】
次世代光学を実装 ― ワイヤーグリッド偏光子と量産メタレンズ最新技術
(株)日本レーザー
装置の小型化と高効率化を実現
Moxtex社 Shaun Ogden 氏
Optics General Manager次世代光学の実装課題を解決。ワイヤーグリッド偏光子と量産対応メタレンズの最新技術を、グローバルリーダーMoxtek社が解説します。
半導体検査・産業用カメラ・AR/VR向けに、光学系の小型化・高効率化・高耐久を同時に実現する設計・量産ソリューションをご紹介。
日本語サポート有
2026年04月22日(水)
11:30-12:15
展示ホール内特設会場3
【EX-2 】
フェムト秒レーザおよび微細加工応用におけるパラメータの重要性
フォトテクニカ(株)
Light Conversion UAB Karolis Keina 氏
産業用レーザ営業部 本部長業界をリードする高出力フェムト秒レーザ CARBIDE を紹介するとともに、BiBurst 機能を活用したガラス・金属加工を含む各種微細加工応用における主要パラメータの重要性について紹介します。
日本語サポート有
2026年04月22日(水)
12:30-13:15
展示ホール内特設会場3
【EX-3 】
縮小するピクセルと光学性能：Ophirが実現する高性能IRイメージング
(株)オフィールジャパン
(株)オフィールジャパン 椎名 周作 氏
セールスマネージャー赤外カメラ用センサーのピクセル縮小が進み、装置の小型・軽量化が可能になりました。その一方で光学系には低F値化や高空間周波数でのMTF確保など、より高精度な設計が求められます。
本プレゼンでは、こうした課題に対し、Ophirが垂直統合された高精度設計・加工・組立技術でどのように解決しているかを紹介します。
2026年04月22日(水)
13:30-14:15
展示ホール内特設会場3
【EX-4 】
短パルスUVレーザーによる最新の加工応用事例
スペクトラ・フィジックス(株)
プログラマブルバーストモード “TimeShift™” を用いた革新的、高品質・高生産性微細加工
スペクトラ・フィジックス(株) 豊田 光裕 氏
産業・OEMレーザー事業部 営業部 セールスマネジャーナノ秒UVレーザー『Talon Ace UV100』による高品質で高い生産性を約束する微細加工事例の紹介、及びピコ秒UVレーザー『IceFyre UV50』のバースト機能により柔軟なパルス出力を実現するTimeShiftテクノロジーをコアとした微細加工例の概要を紹介します。
2026年04月22日(水)
14:30-15:15
展示ホール内特設会場3
【EX-5 】
キーサイトフォトニックIC設計ソリューションのご紹介
キーサイト・テクノロジー(株)
PIC製造に必要な光デバイスから回路レベルの設計方法
キーサイト・テクノロジー(株) 梅川 光晴 氏 ／ ユン デヨル 氏
キーサイトテクノロジーは電気や光の測定器に加え、回路レベルから光デバイスレベルのシミュレーションまでPIC/光電融合のトータルソリューションを提供します。本セッションでは、RSoftを用いた逆設計手法やADS Photonic Designer用いた光回路の設計について事例を交えてご紹介いたします。
2026年04月22日(水)
15:30-16:15
展示ホール内特設会場3
【EX-6 】
半導体検査装置開発における光学シミュレーション活用事例
サイバネットシステム(株)
外観不良からナノスケール欠陥まで、検査成立性を設計段階で見極める
サイバネットシステム(株) 風呂谷 育浩 氏
オプティカル技術部半導体検査装置開発においては最適な照明・結像条件の探索が課題であり、光学シミュレーションはその探索効率化に有用な手段です。
本講演では、外観不良およびナノスケール欠陥それぞれのシミュレーション事例と、AI検査への活用展望について紹介します。
2026年04月23日(木)
10:30-11:15
展示ホール内特設会場3
【EX-7 】
赤外線カメラの基礎と用途
(株)ビジョンセンシング
(株)ビジョンセンシング 高橋 妃美子 氏
営業部赤外線の基礎知識や赤外線カメラとは何か？を実際の画像を用いて分かりやすく解説いたします。新商品として、炎越し撮影や金属測温に適しており、弊社従来品より低価格かつ感度が向上した非冷却型中赤外線カメラMIR640DBと、高速フレームレート対応の冷却型中赤外線カメラHMIR640PLをご紹介します。
2026年04月23日(木)
11:30-12:15
展示ホール内特設会場3
【EX-8 】
試作レスで実写レベルの迷光を再現する撮像シミュレーション
キーサイト・テクノロジー(株)
ゴースト/フレア評価の新しいスタンダードをご提案
キーサイト・テクノロジー(株) 雪田 俊平 氏
Design Engineering Software シニアスタッフエンジニア結像システムシミュレーターImSymを用いた撮像シミュレーションは、実写に近いゴースト・フレアを再現し、設計段階でリスクを把握する手段を提供します。
講演ではツール概要と様々なアプリケーションの応用例、市販レンズの性能に関する実測との比較や実写再現例を紹介し、試作レスでの迷光評価の可能性を解説します。
2026年04月23日(木)
12:30-13:15
展示ホール内特設会場3
【EX-9 】
スペクトル干渉法（SCI）を用いた曲率半径の直接測定
キヤノンマーケティングジャパン(株)
Direct Radius of Curvature Measurements Using Spectrally Controlled Interferometry
Apre Instruments Donald A. PearsonⅡ 氏
Vice President Sales & Global OperationsSCI光源によって実現するDirect RoC測定手法と得られた測定精度について紹介します。
レーザー式フィゾー干渉計は球面光学素子の高精度測定に用いられてきたが、従来は面形状と曲率半径を別々に、共焦点位置とキャッツアイ位置で測定する必要があり、ステージ追加によるコスト増や誤差要因、装置大型化が課題であった。APRE特許技術であるSCI光源を用いたDirect RoC法では、共焦点位置で面形状と曲率半径を同時に直接測定でき、高精度化、低コスト化、測定時間短縮、装置の小型化を実現する。
英語講演 ※スライドごとに日本語補足あり
2026年04月23日(木)
13:30-14:15
展示ホール内特設会場3
【EX-10 】
COMSOL Multiphysics® による波動光学・光線光学モデリングとマルチフィジックス解析
COMSOL(同)
COMSOL(同) ヤン ジーシン 氏
アプリケーション本セミナーでは、COMSOL Multiphysics® を用いた波動光学および光線光学モジュールによるモデリング手法についてご紹介します。
電磁波および光線解析に対応した幅広い機能に加え、伝熱や構造解析など他のフィジックスとの連成解析について解説します。
2026年04月23日(木)
14:30-15:15
展示ホール内特設会場3
【EX-11 】
量産向け光学用ハードコートフィルターの取り組み
エドモンド・オプティクス・ジャパン(株)
イオンビームスパッタリング（IBS）やマグネトロンスパッタリング技術を活用した高精度薄膜形成に関する当社の取り組み、ならびにその他関連する製造技術の自動化による省人化実現の紹介
エドモンド・オプティクス・ジャパン(株) 柴田 雅敏 氏
技術部 部長光学デバイスの進化に伴い、高耐久かつ高性能なハードコートフィルターの需要が急速に拡大しています。
本講演では、産業・医療・航空宇宙分野をはじめとする多様な用途に対応するためのイオンビームスパッタリング（IBS）やスパッタリング技術を活用した高精度薄膜形成、耐摩耗性・耐環境性を備えたハードコートフィルターの取り組みについて紹介します。
2026年04月24日(金)
10:30-11:15
展示ホール内特設会場3
【EX-13 】
光通信デバイスへのUA3Pの取り組み
パナソニックＦＳエンジニアリング(株)
UA3Pが拓くAIサーバー関連光通信デバイス測定の最前線
パナソニックＦＳエンジニアリング(株) 関口 修平 氏
今年は、世界的に需要が急増するAIデータサーバー関連の光通信分野において、超高精度三次元測定機「UA3P」を用いた、デバイスの測定・評価取り組みや、最新の測定ソリューションについて詳しくご紹介いたします。
2026年04月24日(金)
11:30-12:15
展示ホール内特設会場3
【EX-14 】
Opto Electronics Test Trend & Challenge（オプトエレクトロニクステスト 市場動向と課題）
Emerson（日本NI）
光電融合デバイスのテスト手法について
Emerson（日本NI） 大山 貴之 氏
エンタープライズアカウント事業部 シニアアカウントマネージャ
AIデータセンターの需要増に伴い加速するSiPhoデバイスから、VCSELやuLEDなどの光デバイスまで、光と電気の双方を測定する際の課題について触れ、より効率的にテストする手法についてご紹介します
2026年04月24日(金)
12:30-13:15
展示ホール内特設会場3
【EX-15 】
ナノメートル精度加工技術を用いた高精度光学部品のご紹介
ナルックス(株)
ナルックス(株) 田中ゆずき 氏
営業部ナルックスは高精度な樹脂・ガラス光学素子メーカーです。
170°超広角配光を実現するLiDAR用光拡散素子や、260℃リフロー後も特性を維持する耐熱樹脂光学素子、試作・評価まで行ったメタレンズ、量産性に優れた樹脂製AR導光板、狭所や内部を計測可能な超小型3Dスキャナなど、最先端技術をご紹介します。
2026年04月24日(金)
13:30-14:15
展示ホール内特設会場3
【EX-16 】
薄膜ニオブ酸リチウム（TFLN）変調器の３Dシミュレーション手法について
CBS Japan
Simulation of TFLN Mach Zehnder modulators For ultra fast data transmission in data centres and photonic computing.
CBS Japan トム・デービス 氏
CEOTFLN(X-Cut)マッハツェンダー（MZ）変調器の印加電圧が光出力に及ぼす影響、進行波電極モデルが含む電気モデルと非線形効果をシミュレートする物理モデルの組み込み、GHz変調器作成と非線形効果による損失を含めた計算手法など、電圧効果も考慮したTFLN MZ変調器の設計手法について紹介します。
英語による講演
2026年04月24日(金)
14:30-15:15
展示ホール内特設会場3
【EX-17 】
レンズ設計における製造性考慮の重要性と誤差感度低減ソリューション
キーサイト・テクノロジー(株)
光学設計ソフトウェアCODE Vの取り組みと最新情報
キーサイト・テクノロジー(株) 谷川 崇 氏
Design Engineering Software シニアスタッフエンジニア量産時の歩留まりの問題は、レンズ設計において避けて通ることができません。設計段階から誤差の影響を的確に把握し、誤差感度を下げる設計をしておくことで、設計の手戻りを削減と製造コストの低減を実現できます。CODE Vの超高速な公差解析、効果的な誤差感度低減機能などによる、この問題の解決法を紹介します。
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