2020年11月11日(水)
09:30-12:25
-アネックスホール F201
・最適化設計でソフトウェアが有する設計手法や機能
・成膜後の測定結果と設計との差異解析（リバースエンジニアリング）
・膜厚バラツキと屈折率バラツキの影響
・パソコンの性能と計算速度
等々の実務的な内容を中心に具体的に解説する。
【-1 】
光学薄膜の外観欠陥評価と設計ソフトウェア活用（於：4F 特設A）
光学薄膜の各種評価と実例
東海大学 室谷 裕志 氏
光学薄膜は様々な光学センサー、光学製品に用いられており、その使用範囲も量も増大しています。特に自動車の自動化運転に関わる各種光学センサーに用いられる光学薄膜は、カメラ等に求められていた以上の耐久性が求められています。また、デジタルカメラ、スマートフォンのカメラ等の撮像製品においては、高感度、高画質化、小型化がますますすんでいます。これらの結果、光学特性・外観品質・機械的特性に求められるものは、ますます厳しくなってきています。
この様に求められる特性が厳しくなってきても正しく評価できなければ良い製品を作ることができません。また、異物、白濁、シミなどの外観品質や機械的特性については、製品の評価だけでなく、製造工程の影響を考える必要もあり、それにはプロセスの評価も必要となります。当然ですが、検査工程で見つけることができなければ、製造工程へのフィードバックもできません。
本セミナーでは光学特性の評価の基礎から異物、白濁、シミなどの外観品質の評価方法、機械的特性の評価方法などを実例を元に紹介します。また、データの解析方法、正しいデータを得るための注意点等をご紹介いたします。また、低出力レーザー耐性や低応力化などのこれからの光学薄膜に求められる特性についての考え方なども紹介します。
この様に求められる特性が厳しくなってきても正しく評価できなければ良い製品を作ることができません。また、異物、白濁、シミなどの外観品質や機械的特性については、製品の評価だけでなく、製造工程の影響を考える必要もあり、それにはプロセスの評価も必要となります。当然ですが、検査工程で見つけることができなければ、製造工程へのフィードバックもできません。
本セミナーでは光学特性の評価の基礎から異物、白濁、シミなどの外観品質の評価方法、機械的特性の評価方法などを実例を元に紹介します。また、データの解析方法、正しいデータを得るための注意点等をご紹介いたします。また、低出力レーザー耐性や低応力化などのこれからの光学薄膜に求められる特性についての考え方なども紹介します。
●難易度：入門程度（大学一般教養程度）
光学薄膜の設計・成膜工程における薄膜設計ソフトウェア活用の基礎
(有)ケイワン 鬼崎 康成 氏
光学薄膜の未経験者・入門者が実際に成膜をするためにはどのような手順で進めていけば良いのかを設計、成膜、リバースエンジニアリングの側面から具体的に解説する。
目標とする分光特性目標を実現するためには光学薄膜設計ソフトウェアが不可欠であるが、ソフトウェアによって有している機能が異なっており、製品品質、歩留だけでなく技術者の生産性にも影響する。
本講演ではOIC設計コンテストで毎回1位を獲得している光学薄膜ソフトウェア「OptiLayer」の機能を使用して
・成膜データの取得・最適化設計でソフトウェアが有する設計手法や機能
・成膜後の測定結果と設計との差異解析（リバースエンジニアリング）
・膜厚バラツキと屈折率バラツキの影響
・パソコンの性能と計算速度
等々の実務的な内容を中心に具体的に解説する。
●難易度：一般的（高校程度、一般論）
2020年11月11日(水)
09:30-12:25
-アネックスホール F201
・最適化設計でソフトウェアが有する設計手法や機能
・成膜後の測定結果と設計との差異解析（リバースエンジニアリング）
・膜厚バラツキと屈折率バラツキの影響
・パソコンの性能と計算速度
等々の実務的な内容を中心に具体的に解説する。
【-1 】
光学薄膜の外観欠陥評価と設計ソフトウェア活用（Zoom聴講）
光学薄膜の各種評価と実例
東海大学 室谷 裕志 氏
光学薄膜は様々な光学センサー、光学製品に用いられており、その使用範囲も量も増大しています。特に自動車の自動化運転に関わる各種光学センサーに用いられる光学薄膜は、カメラ等に求められていた以上の耐久性が求められています。また、デジタルカメラ、スマートフォンのカメラ等の撮像製品においては、高感度、高画質化、小型化がますますすんでいます。これらの結果、光学特性・外観品質・機械的特性に求められるものは、ますます厳しくなってきています。
この様に求められる特性が厳しくなってきても正しく評価できなければ良い製品を作ることができません。また、異物、白濁、シミなどの外観品質や機械的特性については、製品の評価だけでなく、製造工程の影響を考える必要もあり、それにはプロセスの評価も必要となります。当然ですが、検査工程で見つけることができなければ、製造工程へのフィードバックもできません。
本セミナーでは光学特性の評価の基礎から異物、白濁、シミなどの外観品質の評価方法、機械的特性の評価方法などを実例を元に紹介します。また、データの解析方法、正しいデータを得るための注意点等をご紹介いたします。また、低出力レーザー耐性や低応力化などのこれからの光学薄膜に求められる特性についての考え方なども紹介します。
この様に求められる特性が厳しくなってきても正しく評価できなければ良い製品を作ることができません。また、異物、白濁、シミなどの外観品質や機械的特性については、製品の評価だけでなく、製造工程の影響を考える必要もあり、それにはプロセスの評価も必要となります。当然ですが、検査工程で見つけることができなければ、製造工程へのフィードバックもできません。
本セミナーでは光学特性の評価の基礎から異物、白濁、シミなどの外観品質の評価方法、機械的特性の評価方法などを実例を元に紹介します。また、データの解析方法、正しいデータを得るための注意点等をご紹介いたします。また、低出力レーザー耐性や低応力化などのこれからの光学薄膜に求められる特性についての考え方なども紹介します。
●難易度：入門程度（大学一般教養程度）
光学薄膜の設計・成膜工程における薄膜設計ソフトウェア活用の基礎
(有)ケイワン 鬼崎 康成 氏
光学薄膜の未経験者・入門者が実際に成膜をするためにはどのような手順で進めていけば良いのかを設計、成膜、リバースエンジニアリングの側面から具体的に解説する。
目標とする分光特性目標を実現するためには光学薄膜設計ソフトウェアが不可欠であるが、ソフトウェアによって有している機能が異なっており、製品品質、歩留だけでなく技術者の生産性にも影響する。
本講演ではOIC設計コンテストで毎回1位を獲得している光学薄膜ソフトウェア「OptiLayer」の機能を使用して
・成膜データの取得・最適化設計でソフトウェアが有する設計手法や機能
・成膜後の測定結果と設計との差異解析（リバースエンジニアリング）
・膜厚バラツキと屈折率バラツキの影響
・パソコンの性能と計算速度
等々の実務的な内容を中心に具体的に解説する。
●難易度：一般的（高校程度、一般論）
2020年11月11日(水)
13:10-16:05
-アネックスホール F201
【-2 】
光学薄膜の基礎（於：4F 特設A）
光学薄膜の膜設計と成膜手法の基礎
オプトグリーン(株)／(一社)光融合技術協会 生水 利明 氏
光学薄膜が使われる分野は年々広まっており光学機器以外にも応用されている。光学薄膜は、その歴史においてレンズの反射防止膜（ARコート）から始まり、近年では層数が200層以上にもなる高精度干渉フィルターが実用化されている。一方その重要性はFPD、HUD、太陽電池、加飾、重力波検出干渉計ミラーさらに新型コロナウィルス対応の各種分析器などの分野でもコア技術として光学薄膜が注目されている。
本講演では広範な分野で利用されている光学薄膜を製品化する上で、必須な膜設計・成膜に関する基礎を、反射防止膜を中心に紹介する。
●難易度：初級程度（大学専門程度、基礎知識を有す）
分光エリプソメトリーによる光学薄膜の評価
(有)テクノ・シナジー 田所 利康 氏
エリプソメトリーは、光の基本的な性質である偏光を利用した光学計測法であり、極薄膜や表面/界面に高い感度を有することから、半導体を始めとする様々な産業分野・学術分野において、ナノメーター精度の精密膜厚計として広く定着している.エリプソメトリーから発展した分光エリプソメトリーは、スペクトルが持つ豊富な情報量を活かした精密な膜厚計測や薄膜の光物性評価が可能なことから、光学薄膜の評価法として大変重要である。しかしながら、分光エリプソメトリーに登場する測定パラメーターの意味が分かりづらいこと、光学モデルを用いた解析が直感的に理解しづらいこと、偏光、干渉、誘電関数といった光学や光物性の基礎知識が必要なことなどから、分光エリプソメトリーを十分に使いこなすことは容易ではない。
本講演では、分光エリプソメトリーの概要を光学の基礎からやさしく説き起こし、実際の光学薄膜サンプルの測定解析事例を紹介しながら、分光エリプソメトリーにおける測定解析の進め方、光学モデルの立て方などのポイントを解説していく。
本講演では、分光エリプソメトリーの概要を光学の基礎からやさしく説き起こし、実際の光学薄膜サンプルの測定解析事例を紹介しながら、分光エリプソメトリーにおける測定解析の進め方、光学モデルの立て方などのポイントを解説していく。
●難易度：入門程度（大学一般教養程度）
2020年11月11日(水)
13:10-16:05
-アネックスホール F201
【-2 】
光学薄膜の基礎（Zoom聴講）
光学薄膜の膜設計と成膜手法の基礎
オプトグリーン(株)／ (一社)光融合技術協会 生水 利明 氏
光学薄膜が使われる分野は年々広まっており光学機器以外にも応用されている。光学薄膜は、その歴史においてレンズの反射防止膜（ARコート）から始まり、近年では層数が200層以上にもなる高精度干渉フィルターが実用化されている。一方その重要性はFPD、HUD、太陽電池、加飾、重力波検出干渉計ミラーさらに新型コロナウィルス対応の各種分析器などの分野でもコア技術として光学薄膜が注目されている。
本講演では広範な分野で利用されている光学薄膜を製品化する上で、必須な膜設計・成膜に関する基礎を、反射防止膜を中心に紹介する。
●難易度：初級程度（大学専門程度、基礎知識を有す）
分光エリプソメトリーによる光学薄膜の評価
(有)テクノ・シナジー 田所 利康 氏
エリプソメトリーは、光の基本的な性質である偏光を利用した光学計測法であり、極薄膜や表面/界面に高い感度を有することから、半導体を始めとする様々な産業分野・学術分野において、ナノメーター精度の精密膜厚計として広く定着している.エリプソメトリーから発展した分光エリプソメトリーは、スペクトルが持つ豊富な情報量を活かした精密な膜厚計測や薄膜の光物性評価が可能なことから、光学薄膜の評価法として大変重要である。しかしながら、分光エリプソメトリーに登場する測定パラメーターの意味が分かりづらいこと、光学モデルを用いた解析が直感的に理解しづらいこと、偏光、干渉、誘電関数といった光学や光物性の基礎知識が必要なことなどから、分光エリプソメトリーを十分に使いこなすことは容易ではない。
本講演では、分光エリプソメトリーの概要を光学の基礎からやさしく説き起こし、実際の光学薄膜サンプルの測定解析事例を紹介しながら、分光エリプソメトリーにおける測定解析の進め方、光学モデルの立て方などのポイントを解説していく。
本講演では、分光エリプソメトリーの概要を光学の基礎からやさしく説き起こし、実際の光学薄膜サンプルの測定解析事例を紹介しながら、分光エリプソメトリーにおける測定解析の進め方、光学モデルの立て方などのポイントを解説していく。
●難易度：入門程度（大学一般教養程度）
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