これらの知識は、光学薄膜を利用した光学系を利用する設計者の方々は勿論、光学薄膜を学ぶ学生、技術者、または販売に関わる方々にも役立つものと思います。

今回は光学薄膜の分光特性検査の測定方法の基礎や測定目的に応じた応用事例、アタッチメントの選択方法について紹介します。

1974年の発明以来、原子層堆積（ALD：Atomic Layer Deposition）は、物理、化学、生物、および医学のさまざまな用途向けの薄膜構造の堆積において、驚異的な性能を発揮してきました。ALDの独自の一層ごとの成長メカニズムにより、非常に均一性、コンフォーマル、品質の高い薄膜を平面基板だけでなく、複雑な表面形状に対しても同様に堆積できます。

光学システムにおける薄膜形成では、これらのALDの特性は、従来の物理的または化学的蒸着技術には見られないことが多く、集積光導波路、高度に湾曲したレンズ、またはマイクロレンズアレイなどの複雑な形状に薄膜を堆積する場合に最も重要です。
その優れた利点にもかかわらず、従来のALDは成膜速度が比較的遅い（<30nm/h）という欠点があり、光の波長に匹敵する厚さの薄膜がしばしば必要とされる多くの光学システムでのALDの適用が大幅に制限されていました。

今回の発表では、コンフォーマル光学コーティングの製造に革命をもたらす、新世代のALD技術であるSpatial（空間的）ALDを紹介します。
Spatial ALDでは、基板は連続するプロセスゾーンを横切って回転し、超高速で高精度の薄膜堆積を実現します。
最大1µm/hに達する堆積速度でのSiO2、Ta2O5、およびAl2O3の製造を含む、当社の新しいC2R Spatial ALDシステムで得られた最新の結果を紹介します。
また、これらの材料が低い表面粗さ（<1ÅRMS）、低損失（<10ppm@1064nm)、優れた均一性（<2%@200mm)、および高い損傷閾値（最大40J/cm2）を示しています。