月刊OPTRONICS

フェムト秒レーザー加工の新しいトレンド

総論

レーザー技術総合研究所　藤田 雅之

Si基板上微細金属スリットを介したフェムト秒レーザーアブレーション

慶應義塾大学　津田 裕之，衆樹 昭文，北野 利一，小原　實

フェムト秒レーザーによる周期構造と機能表面形成

キヤノン マシナリー(株)　沢田 博司

フェムト秒レーザーを用いた金属材料上への微細構造形成

大阪大学　塚本 雅裕，阿部 信，小溝 裕一

フェムト秒レーザーを用いた半導体微細加工

大阪大学　井澤　友策，レーザー技術総合研究所　藤田　雅之

フェムト秒レーザーによるCNT電極表面のナノアブレーション

京都大学　橋田　昌樹，清水　政二，阪部　周二

干渉フェムト秒レーザーを用いた薄膜加工による表面ナノ修飾とナノマテリアル創製

大阪大学　中田 芳樹

ホログラフィックフェムト秒レーザー加工

徳島大学　早崎　芳夫

フェムト秒レーザー照射による結晶核発生と溶液攪拌による新しいタンパク質結晶化技術

大阪大学　森　勇介，安達 宏昭，高野 和文，井上　豪，村上　聡，松村 浩由，佐々木 孝友

LASER EXPO 2006

レンズ設計・製造展2006

出展各社の見どころ

基礎からの量子光学　第4回

光で作られる物質のコヒーレントな状態

東京工業大学　南　不二雄

シリーズIT市場ウォッチング　第61回

半導体商社業界の動向

(株)野村総合研究所　藤浪　啓

技術者・研究者のためのマネジメント学入門　第33回

アーキテクチャの選択

横浜国立大学　鈴木　邦雄，周佐　喜和

ワン・ポイント結像光学　第37回

MTFの測定（1）

朝枝　剛

光の研究コミュニティ　−技術進展を支える光関連研究会/グループ−　第32回

電子情報通信学会　エレクトロニクスソサイエティ マイクロ波・ミリ波フォトニクス時限研究専門委員会

情報通信研究機構　松島　裕一，久利　敏明

光技術の研究開発・特許動向?／技術別に見る最新情報　第104回

エレクトロルミネッセンス

嶋本国際特許事務所　嶋本　久寿弥太

NEWS FLASH

▼光産業技術振興協会，光産業国内生産額統計の2005年度見込みと2006年度予測を発表
▼レーザ加工機，輸出数量の対前年同月比，5カ月連続のプラス
▼液晶テレビ生産台数の対前年同月比，29カ月連続のプラス
▼FTTHの加入数，464万件に
▼東西NTT，2006年度事業計画を発表
▼AT&T，BellSouthを買収
▼ソフトバンク，ボーダフォンを買収へ
▼富士通と横河電機，伝送用光デバイス等を共同開発へ
▼民生用電子機器国内出荷金額，対前年同月比113.5％の1,579億円
▼東芝，LG電子と光ディスクに関するクロスライセンス契約を締結
▼ソニーとNEC，光ディスクドライブ事業合弁会社設立の本契約を締結
▼シャープ，奇美電子とクロスライセンス契約
▼Eastman Kodak，LG.PhilipsとAMOLED技術で提携
▼出光と三井化学，有機EL材料で協業
▼オキサイド，三菱電線工業より光部品事業を買収
▼NEC，25Gb/s動作の面発光レーザを開発
▼東大荒川教授と富士通グループ，量子ドットレーザを使用した10Gb/sの伝送実験に成功
▼NEC，40Gb/s光ファイバ網用波形ひずみ補正LSIを開発
▼沖電気，シリコンレンズを用いた世界最小のmBOSAチップを開発
▼古河電工，温度無依存型AWGモジュールを商品化
▼住田光学ガラス，新素材の光ファイバで白色レーザ発振に成功
▼産総研など，プラズマを用いた3次元映像の描画に成功
▼包括的産学融合アライアンス，有機発光トランジスタを用いたアクティブマトリクスパネルを開発
▼信州大学谷口教授，1,850万cdの超高輝度有機ELを開発
▼三菱電機，半導体レーザを用いたリアプロTVを開発
▼NEC，センサ直径125mmの光ファイバ電界プローブを開発
▼JSRとIBM，ArF液浸技術で線幅30nm以下の露光に成功

PHOTONICS SPECTRA

▼Coherent，Excel Technologyを買収
▼Intell Capital，Xtreme technologies GmbHに出資

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EVENT INFORMATION

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EVENTS

▼第3回 分子配向エレクトロニクス研究フォーラム講演会「有機太陽電池の新展開」〜分子配向・自己組織化が築く光電変換のブレークスルー〜
▼第100回記念特別微小光学研究会 「微小光学 -これから始まる黄金の10年へ向けて-」
▼EUVA 平成17年度成果報告会 (EUVAユs reserch results in FY2005)
▼第37回光波センシング技術研究会「ファイバセンサフォトニクス」-多方面への応用がすすむ光ファイバセンサ-
▼第31回光学シンポジウム「光学システム・光学素子の設計，製作，評価を中心として」
▼AM-FPD06 (2006 The Thirteenth International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices)

書籍紹介

「可視光通信の世界」

PRODUCTS INFORMATION

　(財)光産業技術振興協会が，2004年度の光産業国内生産額実績と2005年度の見込み，および2006年度予測を発表した。発表によれば，2004年度実績は7兆5,672億円で長率は2.4％，2005年度見込みは7兆7,278億円で同2.1％，2006年度予測は8兆1,385億円で同5.3％という結果が出た。

　発表の中で少し気になったのは，今回の2004年度実績額と2005年度見込み額の数値が昨年発表されたそれを大きく下回っている点である。2004年度の実績額7兆5,672億円は，昨年発表の2004年度見込み額8兆4,045億円を8,000億円強下回っており，成長率は13.8％から2.4％に下方修正された。同様に2005年度見込み額7兆7,278億円は，昨年発表の予測額9兆2,794億円を1兆5,000億円強も下回っており，成長率は10.4％から2.1％に下方修正されている。

　同協会では，光伝送機器・装置が通信バブル崩壊後，未だ立ち直っていない事に加えCD，DVD等の記録型光ディスク装置や記録型光ディスク媒体の海外への生産シフトが加速度的に進み，さらには記録媒体が光ディスクからハードディスクやフラッシュメモリ等に移行していることが原因ではないかとしている。

　これまでの生産額統計を振り返ってみると，通信バブルが崩壊した2001年度に対前年度比成長率が15.1％もダウンした事はあったが，その翌年の2002年度にはすぐに持ち直し2.7％のアップ，2003年度は19.8％アップと急成長し，その後も回復基調に乗って10％台の成長が続くと予想されていた。今回の発表でも2006年度は5.3％アップで持ち直すという予測が出てはいるものの，光産業を取り巻く内外の変化は，これまで以上に大きく，かつスピードも速まっており，予測そのものが難しくなっているという印象を受ける。

　生産拠点の国内回帰も言われているが，それは日本でなくては作る事のできない高度な技術とノウハウをもとにした製品に限られる。汎用技術による，言わば中級品的大量生産型製品の海外生産シフトは基本的に止めることは難しいだろう。そうとなれば，産業を引っ張って行ってくれる価値の高い新規製品を次々に生み出して行くしかない。我が国の光産業を安定？成長産業にしないためにも，研究開発の重要性はますます高まって行く。

　今月号の特集では，フェムト秒レーザ加工のトピックスを取り上げてみた。チタンサファイアレーザの普及によってフェムト秒レーザ加工がより身近なものになり，応用研究も活発化している。フェムト秒レーザの照射によってマテリアルに新しい機能を付加したり，少ないエネルギーでより効率的な加工ができたりして，競争力の高い製品が生み出され，それが我が国の光産業を発展させる。今後の研究開発と産業応用の進展に大いに期待したい。

編集長　川尻 多加志

特集「フィールドエミッションディスプレイ（仮題）」

▼総論
▼CNT-FED
▼スピント型FED
▼GMFを用いた高精細冷陰極ディスプレイ
▼BSD-FED
▼FEAを用いた小型超高感度撮像デバイスの開発
▼転写モールド型FED

(都合により，内容に変更のある場合があります。)